Оборудование для предприятий микроэлектронной промышленности, а также предприятий, занимающихся нанесением высокопрочных покрытий.
Предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки размером до Ø150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×350 мм).
В установку Caroline D12B2 может быть установлено максимум 7 магнетронов, 2 источника ионов и 2 нагревателя.
Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.